Die Steinmeyer Mechatronik GmbH hat in Kooperation mit der August Steinmeyer GmbH & Co. KG ein hochpräzises Positioniersystem für die Anwendung in trockener Stickstoffatmosphäre oder Vakuum entwickelt. Das Maskensystem eignet sich ideal für den Einsatz in der Standard- sowie hochauflösenden UV-Lithografie und ermöglicht eine feine XY-Theta-Ausrichtung von Belichtungsmasken mit bis zu 0.03 µrad.
Darin kommen geschliffene Miniatur-Kugelgewindetriebe mit einem Spindeldurchmesser von 12 mm von August Steinmeyer zum Einsatz. Diese sind mit einer Flansch-Einzelmutter mit 4-Punkt-Kontakt, Einzelgangumlenkung und optional Keramikkugeln ausgestattet. Die hohe geometrische Qualität und Oberflächengüte der spielfrei vorgespannten Komponenten sorgen für einen idealen Gleichlauf in der Anwendung und ermöglichen kleinste Stellinkremente.
Quelle: Steinmeyer
